真空電鍍是一種高科技表面處理技術，可以在真空環境下將金屬、非金屬等材料鍍上薄膜，具有非常高的光學、電學和化學性能，下面同遠表面處理小編來講解一下。

　　一、基本原理

　　真空電鍍的原理是將待鍍物放入真空室中，然后加熱到一定溫度，使得金屬或非金屬材料處于蒸發狀態。蒸發出的材料會在真空環境下沉積在待鍍物表面，形成薄膜。這種沉積過程是通過物質的高速活動和碰撞來實現的。真空電鍍的成膜速率和膜的品質取決于真空質量、材料的純度、溫度和沉積時間等因素。

　　二、過程步驟

　　1. 準備工作：將待鍍物表面清洗干凈，以去除油脂、污垢等雜質。

　　2. 進入真空室：將待鍍物放入真空室中，并將室內真空抽取至一定的真空度。

　　3. 加熱蒸發：對要鍍的金屬或非金屬材料進行加熱，使其處于蒸發狀態。

　　4. 沉積：蒸發出的材料在真空環境中飛散并在待鍍物表面沉積，形成薄膜。

　　5. 調整膜厚：通過調節加熱時間、升溫速率、真空度等參數來控制膜的厚度。

　　6. 涂覆保護層：在薄膜表面涂覆一層保護層，以保護膜的品質和穩定性。

　　7. 取出待鍍物：待鍍物完成后，取出真空室，進行后續處理。

　　三、優點

　　真空電鍍技術具有以下優點：

　　1. 鍍層質量高：真空電鍍得到的薄膜具有非常高的質量和穩定性，表面光滑，無孔、無氣泡。

　　2. 鍍層厚度可控：可以根據需要控制膜的厚度和形狀，滿足各種應用要求。

　　3. 鍍層范圍廣：可以對各種材料進行真空電鍍，包括金屬、非金屬、陶瓷、塑料等。